***ПРЕСС-РЕЛИЗ:Компания Vistec и Московский государственный институт электронной техники (Технический университет) начали рабо ту над совместным проектом в области электронно-лучевой

14 декабря 2009 - Mосква, Россия / Йена, Германия, Business Wire

Компания Vistec Electron Beam GmbH с большим удовлетворением сообщает, что она привлечена к участию в реализации амбициционного литографического проекта совместно с известным Московским государственным институтом электронной техники (МИЭТ). МИЭТ, являющийся одним из ведущих современных университетов и исследовательских институтов в России, и немецкая компания Vistec Electron Beam GmbH - передовой изготовитель и поставщик электронно-лучевых установок экспонирования - намерены сотрудничать в рамках высокотехнологичного проекта по производству фотошаблонов, который недавно стартовал в России.

"После запуска и наладки технологической линии Центр проектирования и изготовления фотошаблонов (на площадях МИЭТ) сможет снабжать отечественную полупроводниковую промышленность и научно-исследовательские институты фотошаблонами, изготовленными по передовой технологии и применяемыми для самых разнообразных прикладных задач", - заявил Владимир Беспалов, первый проректор МИЭТ. "Наряду с изготовлением фотошаблонов важную роль в нашем новом Центре играет образовательная и научная деятельность. МИЭТ специально выбрал установку электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка компании Vistec, так как эта система отличается не только превосходными литографическими параметрами, высокой степенью гибкости и зарекомендовавшей себя на практике надёжностью, но и высокой комфортностью обслуживания", добавил Владимир Беспалов.

Выпущенная компанией Vistec установка электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка и с ускоряющим напряжением в 50кВ оснащена полностью автоматической системой загрузки / разгрузки подложек. Установка подготовлена для экспонирования разнообразных типов и размеров подложек.

"Мы очень горды тем, что нам представилась возможность сотрудничать с МИЭТ и принять участие в реализации проекта по производству фотошаблонов", заявил Вольфганг Дорл, генеральный директор компании Vistec Electron Beam GmbH. Электронно-лучевая установка, которую мы недавно отправили в МИЭТ отражает продолжение развития тех долголетних традиционных коммерческих отношений, которые наша компания имеет с Россией. Мы надеемся, что всё это позволит открыть нам новые, интересные возможности на быстро развивающемся российском рынке."

Информация для редакторов

МИЭТ

Московский институт электронной техники (МИЭТ) был образован в г. Зеленограде в 1965 году.

Сегодня Московский государственный институт электронной техники (технический университет) остаётся ведущим вузом России в сфере подготовки специалистов в области высоких наукоемких технологий. В университете функционирует 9 факультетов, 32 основных и 17 базовых (на ведущих предприятиях электроники) кафедр, аспирантура и докторантура. В вузе работают 650 научно-педагогических работников, в том числе 3 академика и 3 член-корреспондента Российской академии наук, 95 профессоров и докторов наук, 290 кандидатов наук, доцентов, обучаются 6500 студентов, более 300 аспирантов и докторантов.

В 2006 году МИЭТ вошел в число первых 17 вузов - победителей конкурса нацпроекта "Образование", внедряющих инновационные образовательные программы.

Vistec Electron Beam Lithography Group

Консорциум Vistec Electron Beam Lithography Group - это глобальный изготовитель и поставщик электронно-лучевых установок экспонирования, применяемых в таких передовых отраслях как в нанотехнологии, биотехнологии и в фотонике. Литографические установки, выпущенные консорциумом Vistec, широко используются всеми крупными изготовителями полупроводниковых изделий для получения эталонных фотошаблонов и в области электронно-лучевой литографии с непосредственным формированием изображения для макетирования и для оценки дизайна микросхем (СБИС). В состав консорциума Vistec Electron Beam Lithography Group входят фирмы Vistec Electron Beam GmbH и Vistec Lithography Inc.

Vistec Lithography

Фирма Vistec Lithography разрабатывает, изготовляет и продаёт электронно-лучевые установки, работающие с острофокусированным лучом (пучок Гаусса). Литографические системы фирмы находят всемирное признание в передовых научно-исследовательских лабораториях и университетах. Фирма Vistec Lithography расположена в городе Ватерфлит недалеко от Эльбаний - столицы федерального штата Нью-Йорка (США).

Vistec Electron Beam

Фирма Vistec Electron Beam выпускает установки электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка, которые успешно используются во всём мире ведущими изготовителями полупроводниковых изделий и многими исследовательскими институтами. Её инновативные электронно-лучевые системы применяются для производства микросхем (СБИС), в интегральной оптике, а также для чисто научных и промышленных исследований. Фирма Vistec Electron Beam находится в городе Йена (Германия).

Все сообщения прессы, а также соответстующий иллюстративный материал Вы можете найти под

www.vistec-semi.com.

Если Вам понадобится другие форматы или иллюстративный материал, просим обращаться в наш адрес:

Контакт:

Ines Stolberg Vistec Electron Beam GmbH Vistec Lithography, Inc.

Manager Strategic Marketing Litho Goeschwitzer Stra?e 25 125 Monroe Street

Tel.: +49(0)3641/651955 D-07745 Jena Watervliet, NY 12189 (USA)

Fax: +49(0)3641/651922

pr@vistec-semi.com

www.vistec-semi.com

PR Agency

Tower PR

Leutragraben 1

D-07743 Jena

Tel.: +49(0)3641/507081

vistec@tower-pr.com

г-жа Инес Штольберг Vistec Electron Beam GmbH

Менеджер Стратегического Маркетинга Гёшвитцер штрассе 25

по Литографии 07745 Йена

Тел.: +49 (0) 3641 65 1955 ФРГ

Факс: +49 (0) 3641 651922

***ПРЕСС-РЕЛИЗ Материал публикуется на коммерческих условиях.

Интерфакс не несет ответственности за содержание материала.

Товары и услуги подлежат обязательной сертификации